Ζητήστε ένα απόσπασμα
Greek
Αρχική Σελίδα ΠροϊόνταΨεκάζοντας στόχοιΨεκάζοντας υλικό εξάτμισης στόχων 90:10/80:20 At% Alsi πυριτίου αργιλίου
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material

Ψεκάζοντας υλικό εξάτμισης στόχων 90:10/80:20 At% Alsi πυριτίου αργιλίου

Λεπτομέρειες:
Τόπος καταγωγής: Κίνα
Μάρκα: JINXING
Πιστοποίηση: ISO 9001
Αριθμό μοντέλου: Ψεκάζοντας στόχος πυριτίου αργιλίου
Πληρωμής & Αποστολής Όροι:
Ποσότητα παραγγελίας min: 1kg
Τιμή: 20～150USD/kg
Συσκευασία λεπτομέρειες: ΠΕΡΊΠΤΩΣΗ ΚΟΝΤΡΑΠΛΑΚΈ
Χρόνος παράδοσης: 10~25 ημέρες εργασίας
Όροι πληρωμής: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Δυνατότητα προσφοράς: 100000kgs/M
Επικοινωνήστε

Λεπτομερής ενημέρωση
Διαδικασία: CIP, συμπίεση ΙΣΧΊΩΝ Μέγεθος σιταριού: Λεπτό μέγεθος σιταριού, καλή πυκνότητα
Μέγεθος: Προσαρμοσμένος εφαρμογή: pvd σύστημα επιστρώματος
Υλικό: Κράμα πυριτίου αργιλίου (AlSi) Μορφή: Κύκλος, πιάτο, σωλήνας
Υψηλό φως:

Ψεκάζοντας στόχοι Alsi πυριτίου αργιλίου

,

Ψεκάζοντας στόχοι 90:10 Alsi

,

Ψεκάζοντας στόχοι 80:20 Alsi

Περιγραφή προϊόντων

Ψεκάζοντας κράμα 90:10/80:20 at% στόχων πυριτίου αργιλίου (AlSi)

Μετά από την ανάπτυξη να ψεκάσει την τεχνολογία επιστρώματος τα τελευταία χρόνια, η τεχνολογία επιστρώματος για τα διάφορα υλικά είναι πολύ τέλεια. Η επιχείρηση Jinxing παρέχει μια μεγάλη έκταση της επιμετάλλωσης των στόχων επιστρώματος (συμπεριλαμβανομένων των στόχων μετάλλων, του κράματος και των ενδιάμεσων στόχων κραμάτων, των κεραμικών στόχων) στα κολλέγια και τα πανεπιστήμια, τα όργανα επιστημονικής έρευνας, τις βιομηχανικές και επιχειρήσεις μεταλλείας.

 

Τομέας εφαρμογής της επιμετάλλωσης του επιστρώματος: Το ψεκάζοντας επίστρωμα χρησιμοποιείται ευρέως στη συσκευασία του επιστρώματος, του επιστρώματος διακοσμήσεων, του αρχιτεκτονικού επιστρώματος γυαλιού, του αυτοκινητικού επιστρώματος γυαλιού, του χαμηλού επιστρώματος γυαλιού ακτινοβολίας, της επίπεδης οθόνης, της οπτικής επικοινωνίας/της οπτικής βιομηχανίας, της οπτικής βιομηχανίας αποθήκευσης στοιχείων, της οπτικής βιομηχανίας αποθήκευσης στοιχείων, της μαγνητικής βιομηχανίας αποθήκευσης στοιχείων, του οπτικού επιστρώματος, του τομέα ημιαγωγών, της αυτοματοποίησης, της ηλιακής ενέργειας, της ιατρικής περίθαλψης, της ταινίας αυτολίπανσης, του επιστρώματος συσκευών πυκνωτών, άλλου λειτουργικού επιστρώματος, κ.λπ. (κρότος για να εισαγάγει τη λεπτομερή εισαγωγή)


Ψεκάζοντας backplane στόχων ανεφοδιασμός, συνδέοντας υπηρεσία: το κέντρο παρέχει ποικίλο ψεκάζοντας backplane στόχων, συμπεριλαμβανομένου του oxygen-free χαλκού, του μολυβδαίνιου, του αργιλίου, του ανοξείδωτου και άλλων υλικών. Συγχρόνως, παρέχει την υπηρεσία συγκόλλησης μεταξύ του στόχου και του πίσω πιάτου.

 

Ο ψεκάζοντας στόχος πυριτίου αργιλίου, ψεκάζοντας στόχος κραμάτων πυριτίου αργιλίου είναι διαθέσιμος στα ποικίλα μεγέθη

 

D100x40mm D65x35mm κ.λπ.

 

Magnetron υλική διαμορφώνοντας μέθοδος στόχων επιμετάλλωσης: η υλική διαμορφώνοντας μέθοδος επιλέγεται σύμφωνα με την απόδοση προϊόντων και τις διαφορετικές απαιτήσεις των πελατών. Γενικά, όταν το σημείο τήξης των υλικών είναι χαμηλό, είναι απαραίτητο να χρησιμοποιηθεί η κενή τήξη, η ρίψη, το σφυρηλατημένο κομμάτι και το κύλισμα για να αποβάλει το πορώδες. Φυσικά, η αποτελεσματική θερμική επεξεργασία είναι απαραίτητη για να καθαρίσει το ομοιόμορφο υλικό σιταριού. Τα υλικά με το υψηλό σημείο τήξης (ή υλικά με την υψηλή εφθραυστότητα) διαμορφώνονται με την καυτή συμπίεση ή την καυτή ισοστατική συμπίεση, και μερικά διαμορφώνονται με την κρύα ισοστατική συμπίεση και συμπυκνώνονται έπειτα. Όλα τα είδη επιμετάλλωσης των υλικών στόχων που παρέχονται από την επιχείρησή μας έχουν την κατάλληλη τεχνολογία, την υψηλή πυκνότητα, το ομοιόμορφο σιτάρι και τη μακριά ζωή υπηρεσιών…

 

Εφαρμογές: οπτική, ηλεκτρονική, οπτικοηλεκτρονική, διακόσμηση, ηλιακή ενέργεια… Το υλικό επιστρώματος που παρέχεται από Jinxing την επιχείρηση έχει τα πλεονεκτήματα της υψηλής αγνότητας, της καλής πυκνότητας και κανενός σημείου ανάφλεξης

 

  
Όνομα Τύπος Πυκνότητα (g/cm3) Σημείο λειωμένων μετάλλων:
Ψεκάζοντας στόχος AlSi 90:10 approx.2.7  660

Ψεκάζοντας στόχος AlSi

 80:20 approx.2.7 660

 

 

 

Τα κύρια προϊόντα είναι:

 

Al αργιλίου υψηλής αγνότητας, $cu χαλκού υψηλής αγνότητας, Tj τιτανίου υψηλής αγνότητας, Si πυριτίου υψηλής αγνότητας, χρυσό Au υψηλής αγνότητας, ασημένιος άργυρος υψηλής αγνότητας, ίνδιο υψηλής αγνότητας μέσα, μαγνήσιο mg υψηλής αγνότητας, ZN ψευδάργυρου υψηλής αγνότητας, λευκόχρυσος PT υψηλής αγνότητας, γερμάνιο Γερμανία υψηλής αγνότητας, Νι νικελίου υψηλής αγνότητας, ταντάλιο TA υψηλής αγνότητας, χρυσό κράμα Auge γερμανίου, χρυσό auni κραμάτων νικελίου, κράμα NiCr χρωμίου νικελίου, κράμα αργιλίου τιτανίου TiAl, cuinga κραμάτων γαλλίου ίνδιου χαλκού, κράμα CuInGaSe σελήνιου γαλλίου ίνδιου χαλκού, κράμα αργιλίου ψευδάργυρου ZnAl, κράμα AlSi πυριτίου αργιλίου και άλλα υλικά επιστρώματος μετάλλων.

 

 

Ψεκάζοντας υλικό εξάτμισης στόχων 90:10/80:20 At% Alsi πυριτίου αργιλίου 0

ετικέτα:

Ψεκάζοντας στόχος βολφραμίου

ψεκάζοντας στόχοι μετάλλων

το τιτάνιο ψεκάζει το στόχο

Ελάτε σε επαφή μαζί μας

Εισάγετε το μήνυμά σας

Μπορεί να είσαι σε αυτά