Ζητήστε ένα απόσπασμα
Greek
Αρχική Σελίδα ΠροϊόνταΨεκάζοντας στόχοιΚυλινδρικοί ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου, απόθεση λεπτών ταινιών στόχων περιστρεφόμενων κυλίνδρων τιτανίου, Magnetron
Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron
Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron

Κυλινδρικοί ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου, απόθεση λεπτών ταινιών στόχων περιστρεφόμενων κυλίνδρων τιτανίου, Magnetron

Λεπτομέρειες:
Τόπος καταγωγής: Κίνα
Μάρκα: JINXING
Πιστοποίηση: ISO 9001
Αριθμό μοντέλου: Ψεκάζοντας στόχος τιτανίου
Πληρωμής & Αποστολής Όροι:
Ποσότητα παραγγελίας min: 1kg
Τιμή: 20～200USD/kg
Συσκευασία λεπτομέρειες: περίπτωση κοντραπλακέ
Χρόνος παράδοσης: 10~25 ημέρες εργασίας
Όροι πληρωμής: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Δυνατότητα προσφοράς: 100000kgs/M
Επικοινωνήστε

Λεπτομερής ενημέρωση
Υλικό: Κυλινδρικοί ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου Διαδικασία: CIP, συμπίεση ΙΣΧΊΩΝ
Μέγεθος: Προσαρμοσμένος 404 Not Found: pvd σύστημα επιστρώματος
Μορφή: Κύκλος, πιάτο, σωλήνας Μέγεθος σιταριού: Λεπτό μέγεθος σιταριού, καλή πυκνότητα
Αγνότητα:: 99.5%, 99。95% Πυκνότητα: 4.52g/cm3

Περιγραφή προϊόντων

Κυλινδρικοί ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου, απόθεση λεπτών ταινιών στόχων περιστρεφόμενων κυλίνδρων τιτανίου, Magnetron

ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου υψηλής αγνότητας Rotatory με την υψηλότερη πιθανή πυκνότητα και τα μικρότερα πιθανά μέσα μεγέθη σιταριού για τη χρήση στον ημιαγωγό, την απόθεση χημικού ατμού (CVD) και τη φυσική επίδειξη απόθεσης ατμού (PVD) και τις οπτικές εφαρμογές.

Προδιαγραφή

Σύνθεση Tj
Αγνότητα

Βαθμός 2 CP (99,5%), βαθμός 1 CP (99,7%),

3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%)
Πυκνότητα 4.51 g/cm3
Μεγέθη σιταριού < 50="" micron="" or="" on="" request="">
Διαδικασίες επεξεργασίας Κενή τήξη, σφυρηλάτηση, εξώθηση, κατεργασία
Μορφή Κατ' ευθείαν, κόκκαλο σκυλιών
Τύποι τελών SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, σταθεροποίηση ακρών GPI, σπειροειδές αυλάκι, επί παραγγελία
Επιφάνεια RA 1,6 μικρό ή κατόπιν αιτήσεως

Σχετικός Magnetron ψεκάζοντας περιστρεφόμενος στόχος

Magnetron ψεκάζοντας στόχος, στόχος /rotating (στόχος σωλήνων)          
Στοιχείο αγνότητα Πυκνότητα μορφή Διάσταση (χιλ.)  
Στόχος TiAl 2N8-4N 3.6-4.2 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο

OD70 Χ Τ 7 Χ Λ

Άλλος όπως προσαρμόζεται

  
Στόχος χρωμίου 2N7-4N 7.19 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο

OD80 Χ T8 Χ Λ

Άλλος όπως προσαρμόζεται

  
Στόχος Tj 2N8-4N 4.51 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο

OD127 Χ ID105 Χ Λ

OD219 Χ ID194 Χ Λ

OD300 Χ ID155 Χ Λ

Άλλος όπως προσαρμόζεται

  
Zr στόχος 2N5-4N 6.5 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο Άλλος όπως προσαρμόζεται  
Στόχος Al 4N-5N 2.8 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο    
Στόχος Νι 3N-4N 8.9 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο    

Στόχος $cu

(χαλκός)

 3N-4N5 8.92 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο    

Στόχος $cu

(ορείχαλκος)

 3N-4N5 8.92 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο    
Στόχος TA 3N5-4N 16.68 Σωλήνας, δίσκος, πιάτο OD146xID136x299.67 (3pcs)  

Κυλινδρική ψεκάζοντας εικόνα στόχων τιτανίου:

Κυλινδρικοί ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου, απόθεση λεπτών ταινιών στόχων περιστρεφόμενων κυλίνδρων τιτανίου, Magnetron 0

Κυλινδρικοί ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου, απόθεση λεπτών ταινιών στόχων περιστρεφόμενων κυλίνδρων τιτανίου, Magnetron 1

ετικέτα:

Ψεκάζοντας στόχος βολφραμίου

ψεκάζοντας στόχοι μετάλλων

το τιτάνιο ψεκάζει το στόχο

Ελάτε σε επαφή μαζί μας

Εισάγετε το μήνυμά σας

Μπορεί να είσαι σε αυτά