Ψεκάζοντας στόχος βολφραμίου κραμάτων υψηλής αγνότητας για τη λεπτή βιομηχανία κινηματογράφου

Περιγραφή προϊόντων

Ψεκάζοντας στόχος βολφραμίου υψηλής αγνότητας για τη λεπτή βιομηχανία κινηματογράφου

Το βολφράμιο που ψεκάζει τους στόχους έχει το υψηλότερο σημείο τήξης (3422℃, 6192 ℉) όλων των μετάλλων με καθαρή μορφή. Έχει τη χαμηλότερη πίεση ατμού (στις θερμοκρασίες επάνω από 1650℃, 3000 ℉) και την υψηλότερη εκτατή δύναμη.

Πληροφορίες στόχων επιμετάλλωσης βολφραμίου

Ψεκάζοντας στόχοι βολφραμίου
Αγνότητα: 99.95%

Εγκύκλιος: Διάμετρος ≤ 14 ίντσα, πάχος ≥ 0,040»
Φραγμός: Μήκος ≤ 32 ίντσα, πλάτος ≤ 12 ίντσα, πάχος ≥ 1mm.

Ψεκάζοντας εικόνα στόχων βολφραμίου:

 

Το βολφράμιο έχει το υψηλότερο σημείο τήξης (3422℃, 6192 ℉) όλων των μετάλλων με καθαρή μορφή. Έχει τη χαμηλότερη πίεση ατμού (στις θερμοκρασίες επάνω από 1650℃, 3000 ℉) και την υψηλότερη εκτατή δύναμη. Αν και ο άνθρακας παραμένει σταθερός στις υψηλότερες θερμοκρασίες από το βολφράμιο, ο άνθρακας sublimes στην ατμοσφαιρική πίεση αντί της τήξης, έτσι αυτό δεν έχει κανένα σημείο τήξης. Το βολφράμιο έχει το χαμηλότερο συντελεστή της θερμικής επέκτασης οποιουδήποτε καθαρού μετάλλου. Η χαμηλή θερμική επέκταση και το υψηλό σημείο τήξης, και η εκτατή δύναμη του βολφραμίου προέρχονται τους ισχυρούς ομοιοπολικούς δεσμούς που διαμορφώνονται από μεταξύ των ατόμων βολφραμίου από τα ηλεκτρόνια 5d. Η ανάμιξη των μικρών ποσοτήτων βολφραμίου με το χάλυβα αυξάνει εντυπωσιακά την ανθεκτικότητά της.