Ζητήστε ένα απόσπασμα
Greek
Αρχική Σελίδα ΠροϊόνταΨεκάζοντας στόχοιΥψηλή αγνότητα στόχων επιμετάλλωσης χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου
Titanium Aluminium Zirconium Chrome Sputtering Targets High Purity
Titanium Aluminium Zirconium Chrome Sputtering Targets High Purity
Titanium Aluminium Zirconium Chrome Sputtering Targets High Purity Titanium Aluminium Zirconium Chrome Sputtering Targets High Purity Titanium Aluminium Zirconium Chrome Sputtering Targets High Purity Titanium Aluminium Zirconium Chrome Sputtering Targets High Purity Titanium Aluminium Zirconium Chrome Sputtering Targets High Purity

Υψηλή αγνότητα στόχων επιμετάλλωσης χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου

Λεπτομέρειες:
Τόπος καταγωγής: Κίνα
Μάρκα: High Purity Titanium Aluminium Zirconium Chrome Sputtering Target
Πιστοποίηση: ASTM
Αριθμό μοντέλου: Πιάτα
Πληρωμής & Αποστολής Όροι:
Ποσότητα παραγγελίας min: Διαπραγματεύσιμος
Τιμή: 100USD-200USd
Συσκευασία λεπτομέρειες: Τυποποιημένη συσκευασία
Χρόνος παράδοσης: 10-30days
Όροι πληρωμής: L/C, T/T
Δυνατότητα προσφοράς: 10Ton/Month
Επικοινωνήστε

Λεπτομερής ενημέρωση
Κράτος: Ανοπτημένος Rm (≥) /MPa: 379
Rp0.2 (PA: 207 A50mm (≥)/%: 16
Όνομα: Ψεκάζοντας στόχος χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου υψηλής αγνότητας Υλικό: Zr702, Zr704, Zr705
Υψηλό φως:

Ψεκάζοντας στόχοι χρωμίου ζιρκονίου

,

Ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου υψηλής αγνότητας

,

Ψεκάζοντας στόχοι αλουμινίου υψηλής αγνότητας

Περιγραφή προϊόντων

 Ψεκάζοντας στόχος χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου υψηλής αγνότητας

Παράγουμε τον ψεκάζοντας στόχο χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου υψηλό - καθαρό μέταλλο ποιοτικών ψεκάζοντας στόχων, κράμα και κεραμικά υλικά.

FANMETAL παράγει τους high-purity καθαρούς ψεκάζοντας στόχους μετάλλων και κραμάτων με την υψηλότερη πυκνότητα και το μικρότερο μέσο μέγεθος σιταριού για τον ημιαγωγό, την απόθεση χημικού ατμού (CVD) και τη φυσική επίδειξη απόθεσης ατμού (PVD) και τις οπτικές εφαρμογές. Χρησιμοποιούμε χαρακτηριστικά το κενό που λειώνει ή καυτός ισοστατικός που πιέζει (ΙΣΧΙΟ) για την παραγωγή. Επιλέγουμε την κατάλληλη διαδικασία παραγωγής για να δημιουργήσουμε ένα προϊόν που καλύπτει τις συγκεκριμένες απαιτήσεις εφαρμογής σας.

Οι ψεκάζοντας στόχοι μας είναι σε μια περιεκτική σειρά, τα επίπεδα αγνότητας, τις μορφές και τα μεγέθη. Παραδείγματος χάριν, οι πιό κοινές μορφές στόχων περιλαμβάνουν κυκλικός, ορθογώνιος, δακτυλιοειδής και σωληνοειδής. Ανάλογα με το μέγεθος του στόχου και τη φύση του υλικού, μπορούν να ενιαίος-τέμνονται ή να πολυ-τέμνονται. Μπορούμε να προσαρμόσουμε σύμφωνα με τις ανάγκες σας.

Προδιαγραφή στόχων επιμετάλλωσης χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου

Όνομα προϊόντων Στόχος τιτανίου για τη μηχανή επιστρώματος pvd
Βαθμός

Τιτάνιο (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12)

Στόχος κραμάτων: Tj-Al, Tj-χρώμιο, Tj-Zr κ.λπ.
Προέλευση Επαρχία Κίνα Henan
Περιεκτικότητα σε τιτάνιο ≥99.5 (%)
Περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες <0>
Πυκνότητα 4.51 ή 4.50 g/cm3
Πρότυπα ASTM B381 ASTM F67, ASTM F136

 

Μέγεθος

1. Στρογγυλός στόχος: Ø30--2000mm, πάχος 3.0mm--300mm

2. Πιάτο Targe: Μήκος: πλάτος 200500mm: πάχος 100230mm: 3--40mm

3. Στόχος σωλήνων: Dia: πάχος 30200mm: μήκος 520mm: 5002000mm

4. Προσαρμόζεται διαθέσιμος
Τεχνική Σφυρηλατημένος και CNC επεξεργασμένος στη μηχανή
Εφαρμογή Χωρισμός ημιαγωγών, υλικά επιστρώματος ταινιών, επίστρωμα ηλεκτροδίων αποθήκευσης, ψεκάζοντας επίστρωμα, επίστρωμα επιφάνειας, βιομηχανία επιστρώματος γυαλιού.
Χαρακτηριστικό γνώρισμα

1. Χαμηλή πυκνότητα, υψηλή δύναμη μετρητών

2. Άριστη αντίσταση διάβρωσης

3. Έχει την καλή αντίσταση θερμότητας

4. Άριστη αντίσταση χαμηλής θερμοκρασίας

5. Non-magnetic και μη τοξικός

6. Καλή θερμική εκτέλεση

 

Ψεκάζοντας εικόνα στόχων χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου:
Υψηλή αγνότητα στόχων επιμετάλλωσης χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου 0Υψηλή αγνότητα στόχων επιμετάλλωσης χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου 1Υψηλή αγνότητα στόχων επιμετάλλωσης χρωμίου ζιρκονίου αλουμινίου τιτανίου 2

 

ψεκάζοντας στόχος τιτανίου Ψεκάζοντας στόχος αλουμινίου Ψεκάζοντας στόχος ζιρκονίου ψεκάζοντας στόχος χρωμίου
99.8% 99.99% 99.8% 99.8%
 

 

Κεραμικός ψεκάζοντας στόχος νιτριδίων
Υλικά Αγνότητα Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων αργιλίου (AlN) 2N5-3N Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων χρωμίου (Cr2N) 2N5-3N Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων σιδήρου (FeN4) 3N Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων νιόβιου (NbN) 2N5 Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων τανταλίου (Tan) 2N5 Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων βαναδίου (VN) 2N5 Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων ζιρκονίου (ZRN) 2N5 Έρευνα
ΔΙΣΕΚΑΤΟΜΜΥΡΕΣ) ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων βορίου ( 2N5 Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων γερμανίου (Ge3N4) 3N Έρευνα
Hafnium ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων (HfN) 2N5 Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων πυριτίου (Si3N4) 2N5-3N Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων τιτανίου (κασσίτερος) 2N5 Έρευνα
Ψεκάζοντας στόχοι νιτριδίων ψευδάργυρου (Zn3N2) 3N Έρευνα

 

ετικέτα:

Ψεκάζοντας στόχος βολφραμίου

ψεκάζοντας στόχοι μετάλλων

το τιτάνιο ψεκάζει το στόχο

Ελάτε σε επαφή μαζί μας

Εισάγετε το μήνυμά σας

Μπορεί να είσαι σε αυτά